특허정보

탄소분자체의 개질 방법

환경분야: 기후대기
출처: https://plus.kipris.or.kr/
게시일: 2026.11.10

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특허등록일: 20261103
출원일자: 20231013
특허권자: 한화솔루션 주식회사|한국과학기술원
등록번호: 1030447990000
내용: 본 발명은 탄소분자체의 개질법에 관한 것이다. 본 발명의 구현예에 따른 탄소분자체의 개질법은 탄소분자체의 기공에 효과적인 무기 박막을 도입할 수 있고, 기존 CVD 공정보다 낮은 온도 조건에서 수행할 수 있으면서도 균일하게 박막을 형성할 수 있으며, 탄소분자체 기공 크기의 미세 제어를 통하여 기체 종류에 따른 흡착량 변화를 조절할 수 있고, 이에 기체 종류에 따른 분리선택도가 증가할 수 있으며, 비표면적이 크게 감소하는 trade-off가 최소화되어 탄소분자체의 기공 크기가 감소하여도 기체 흡착 용량이 최대화될 수 있다.
태그: #탄소

첨부파일

https://plus.kipris.or.kr/openapi/fileToss.jsp?arg=11ea9f5dfe90b683db66aa9e61528f1951be12fd2697ba244634b1fe9d4dd8248024ac5c424809c45854df2e0b3307a6616ad8085fdb045165b3d8b55a7a0e9581ce07fa15540b40

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