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특허정보 상세정보 게시판
제목 오폐수 및 하수의 고도처리시스템
출원일자 2020-02-07
특허권자 이름 (주)신성엔지니어링
요약

본 발명은 원수로부터 고형분을 분리하는 전처리조; 상기 전처리조로부터 연속 또는 간헐적으로 유입되는 원수를 수용하고 혐기 환경이 유지되는 혐기조와; 상기 혐기조와 인접하며 혐기와 호기 환경을 반복 조성하는 SBR 반응조와; 상기 SBR 반응조를 거친 원수가 유입되어 여과가 이루어지는 여과조; 상기 여과조를 거친 원수가 유입되며 하부에 미세버블이 토출되도록 하는 산기관이 구성된 고액분리조;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오폐수 및 하수의 고도처리시스템에 관한 것이다.

첨부파일 http://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=12df679b84029f739813e9e1875bb857a71431df967939aed89d327a96d272d92d889cf4efcc4e2ce7657cfd4fe66b45072ac29506e9c589560d5fbbde48c8d283fc9b5e5dae5ea9
출처 http://kportal.kipris.or.kr
조회수 527
등록번호 1022164230000
특허 등록일자 2021-02-09

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